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Title: Merging systems in isolated environments galaxias cercanas colisionando en ambientes aislados
Authors: Nagar, Neil Mark , supervisor de grado
Calderón Castillo, Paula Erika Jocelyn
Keywords: Galaxias
Colisiones (Astrofísica)
Masas Estelares
Issue Date: 2018
Publisher: Universidad de Concepción. Facultad de Ciencias Físicas y Matemáticas. Departamento de Física
Abstract: Ya es de conocimiento general que ciertas galaxias masivas aumentan su tasa de formación estelar (SFR por sus siglas en inglés) al pasar por procesos de colisión con galaxias de tamaños similares. Estos aumentos pueden ser de hasta 100 veces la SFR de galaxias no perturbadas, pero con la misma masa estelar (M ). Estudios anteriores encontraron que el tamaño de esta alza en formación estelar (SF) está relacionada con la morfología y la distancia a la que se encuentra la galaxia compañera. Esta misma tendencia se observa en la fracción de galaxias con AGN, donde mientras más cerca se encuentre la galaxia compañera, mayor será la fracción de galaxias con AGN encontrada. Nuestro objetivo principal es analizar esta alza de SF y fracción de AGN acorde a su evolución en el proceso de colisión, usando una secuencia más acorde con las etapas cronológicas del proceso. Además, otro de nuestros propósitos es determinar la relación entre el alza en SF en galaxias colisionando y la morfología de éstas. Aprovechando los valores de M y SFR de 600 galaxias cercanas (z<0.1) colisionando, obtenidos en este estudio, calculamos la distancia que tiene cada una de nuestras galaxias en proceso de colisión con la Secuencia Principal de formación estelar (MS por sus siglas en inglés, sSFR/sSFRMS ). Nos referimos a esta distancia como “SF mode”. Luego, analizamos como la SF mode varía a lo largo del proceso de colisión, dependiendo de la morfología y la M . Asimismo, analizamos el contenido de AGN en nuestras galaxias usando múltiples diagnósticos, unos basados en fracciones de líneas de emisión y otro basado en colores de WISE. Observamos que, generalmente, las galaxias en proceso de colisión muestran un SF mode gobernado por su propia morfología. Esto significa que, galaxias espirales tienden a tener altos SF mode, mientras galaxias extremadamente perturbadas (HD por sus siglas en inglés) muestran aún más altos SF mode (las respectivas medianas son: +0.8 dex y +1.0 dex sobre la MS). De forma contraria, galaxias elípticas y lenticulares muestran los más bajos SF mode, como es de esperar para este tipo de morfología. Aún así, estas galaxias muestran SF mode más elevados comparados con galaxias elípticas y lenticulares que no están en proceso de colisión. Por ejemplo, la mediana del SF mode para este tipo de galaxias está dentro del límite de 1- desde la MS; y esto se observa incluso antes que las galaxias se hayan fusionado, formando un solo objeto. En general, observamos que el SF mode tiende a aumentar gradualmente mientras las galaxias avanzan en el proceso de colisión. Además, encontramos que la fracción de galaxias con AGN tiende a disminuir a lo largo del proceso. En conclusión, encontramos que el proceso de colisión ayuda a aumentar la SF en galaxias de todas las morfologías. Para galaxias elípticas y lenticulares, esto podría sugerir que algo de gas existe antes del proceso, el cual es incitado para formar estrellas por las interacciones tidales. Además, como esta alza en SFR continúa a lo largo del proceso de colisión, sugiere que este aumento tiene un periodo de duración largo, contrario a lo predicho por simulaciones. Por otro lado, la disminución en la fracción de galaxias con AGN podría sugerir que el gas que alimenta el agujero negro supermasivo, sólo cae al agujero en etapas tempranas del proceso, generando un impacto mucho menor en las etapas de fusión (tardías). Es importante notar que la baja fracción de galaxias con AGN puede deberse a la obscuración por polvo en las en las galaxias, aunque no observamos cambios en la tasa de polvo, ni en la etapa del proceso de colisión.
Description: Doctor en Ciencias Físicas Universidad de Concepción 2018
URI: http://repositorio.udec.cl/jspui/handle/11594/3337
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